CVD Elmas Polikristalin
CVD elmas polikristalin, dc ark plazma jet kimyasal buhar biriktirme (CVD) yöntemiyle bir vakum fırınında oluşturulan, kendi kendini destekleyen saf elmas gofrettir.
Atmosfer altı basınçta, karbon içeren gaz (metan) ve hidrojen karışımı uyarılır ve substrat üzerinde biriken ve dönüşümlü olarak polikristalin elmasa dönüşen karbon atomları oluşturmak üzere ayrıştırılır ve büyüme, bir elmas gofret. Bu yöntem aynı zamanda takımları ve iş parçalarını kaplamak için de kullanılabilir.
CVD Elmas Polikristalinin Özellikleri
CVD elmas polikristalinin fiziksel özellikleri, mekanik, termal ve optik açılardan doğal elmasınkine çok yakındır. Sonuç olarak, CVD elmas filmleri özelleştirilmiş boyutlarda lazerle kesilebilir ve elmas işleme aletleri, elmas kesme aletleri, tel çekme kalıpları, ısı emici bileşenleri ve optik pencereler yapmak için kullanılabilir.
Özellikleri
Doğal elmas
CVD elmas polikristalin
Vicker sertliği
＞8000 kg/mm2
＞8000 kg/mm2
Yoğunluğu
3.51 g/cm3
3.51 g/cm3
Termal iletkenlik
＞2500 W/m.K
1000 - 2000 W/m.K
Young modülü
＞1200 GPa
＞1000 GPa
Sürtünme katsayısı
0.1
0.1
Kimyasal stabilite
Herhangi bir asit ve alkalide çözünmez
Herhangi bir asit ve alkalide çözünmez
CVD elmas şifoniyer aracı boşlukları
CVD elmas şifoniyer aracı boşlukları
Mekanik amaçlar için, çok kristalli CVD elmas boşlukları, herhangi bir metalik veya metalik olmayan bağ içermeyen, tutarlı aşınma direncine ve yüksek termal kararlılığa ve termal iletkenliğe sahip yüksek kaliteli saf elmastır.
CVD şifoniyer aracı boşlukları, alüminyum oksit ve silisyum karbür taşlama taşlarını bilemek için tek noktalı şifoniyer aracı, çok noktalı şifoniyer aracı, bıçak şifoniyer aracı, silindirli şifoniyer aracı yapmak için kullanılabilen dikdörtgen kütükler (çubuklar) şekillerinde her zaman mevcuttur.
CVD elmas şifoniyer aracı boşluklarımızın aşınma direnci, işleme hedeflerinin farklı sertliklerini karşılamak ve takım üreticilerinin yüksek maliyet performansı elde etmesine yardımcı olmak için standart sınıftan yüksek dereceye ve birinci sınıf dereceye kadardır.
Aşağıdaki tabloda, CVD elmas şifonyer aracı boşluklarının standart boyutları bulunmaktadır, diğer boyutlar, istek üzerine çizimlere göre lazer kesim ile temin edilebilir.
Genişlik x Kalınlık
Uzunluk (L)
Kod numarası
0.4 x 0.4 mm
0.4 - 5.0 mm
0404L
0.6 x 0.6 mm
0.6 - 8.0 mm
0606L
0.8 x 0.8 mm
0.8 - 10.0 mm
0808L
1.0 x 1.0 mm
1.0 - 10.0 mm
1010L
1.5 x 1.5 mm
1.5 - 10.0 mm
1515L
2.0 x 2.0 mm
2.0 - 10.0 mm
2020L
CVD Elmas Polikristalin (CVD-P) ve Diğer Malzemeler Arasındaki Sertlik Karşılaştırması
Polikristalin CVD Elmas Isı Yayıcı
Elmas, doğadaki bilinen malzemeler arasında mükemmel bir termal iletkenliğe sahip olup, iyi yalıtım performansıyla birleştiğinde, CVD elması lazer diyot, yüksek güçlü yarı iletken cihazlar için ısı yayıcıların üretiminde kullanılan elektronik soğutucu cihazlar için ideal bir malzeme haline getirir, mikrodalga cihazlar ve büyük ölçekli entegre devreler.
CVD elmas ısı yayıcılarımızın termal iletkenliği 1200 ila 2000W/m.K’ye ulaşabilir ve gofretler cilalı alt tabaka tarafı ve üst üste bindirilmiş büyüme tarafı ile mevcuttur.
Aşağıdaki tabloda CVD elmas ısı yayıcıların özellikleri ve standart ölçüleri yer almaktadır, diğer ölçüler istek üzerine temin edilebilir.
Vicker sertliği
8000 - 10000 kg/mm2
Termal iletkenlik
1200 - 2000 W/m.K
Young modülü
1000 - 1100 GPa
Boyutlar
gereği olarak
Kalınlık
300μm ±50μm
Yüzey cilası
substrat tarafı Ra<30nm, büyüme tarafı Ra<100nm
Yassılık
＜4μm/cm
CVD Elmas Polikristalin ve Diğer Malzemeler Arasındaki Termal Özelliklerin Karşılaştırılması
Daha fazla bilgi için lütfen yukarıdaki CVD Elmas Polikristalin ürün kataloğuna bakın veya bize bir soruşturma göndermekten çekinmeyin.